來源:合肥慶霞環??萍加邢薰?發布時間:2019-04-03 點擊次數:
2018年10月18日,第二屆國際先進光刻技術研討會(IWAPS 2018)在廈門隆重舉行,作為光刻行業的盛會,IWAPS為國內外半導體行業和學術界的資深技術專家和優秀研究人員提供了廣闊的平臺。參與者可以分享他們在材料、設備、技術、測量、計算光刻和設計優化方面的研究成果,并探索討論圖形解決方案的選項。
會議由集成電路產業技術創新戰略聯盟主辦,中國科學院微電子研究所、廈門半導體投資集團有限公司主辦,中國光學學會聯合主辦。與會人員包括大會副主席、中國科學院微電子研究所所長、浙江大學光電工程研究所所長、光學學會秘書長劉旭副所長兼戰略秘書長。廈門市委、海滄區委書記、海滄臺商投資區黨工委書記林文生,來自世界各地的眾多知名企業、制造商、科研機構和大學的300多名代表出席了會議。
從誕生之日起,光刻技術的不斷發展,從三個方面保證了集成電路技術的進步:一是大面積均勻曝光,在同一硅片上同時生產大量器件和芯片,保證了批量生產的生產水平;二是電子器件d、圖形的線條寬度不斷縮小,使用權的整合不斷提高,生產成本不斷下降;3、隨著線條寬度的減小,設備的運行速度越來越快,UWIC的性能不斷提高,但隨著集成化、光刻技術正面臨越來越多的困難。
一般的光刻工藝包括硅片表面的清洗和干燥、涂層基底、旋涂光刻膠、軟干燥、對準曝光、后干燥、顯影、硬干燥、蝕刻等工藝,其中光刻設備的重要性不言而喻。
東電電子是世界領先的半導體制造設備和平板顯示器(FPD)制造設備。其產品主要包括半導體制造設備(涂膠顯影設備、熱處理成膜設備、干法蝕刻設備、化學氣相沉積設備、物理氣相沉積設備、電化學沉積設備、清洗設備、密封測量設備)和平底鍋。EL顯示、設備(干法蝕刻設備、顯膠設備)等。公司產品在制造工藝和批量生產方面具有突出的特點,已廣泛應用于世界各地的半導體制造商和平板顯示器制造商的生產線上。
在這次會議上,來自TEL的專家Hiromitsu Maejima和中國電信市場部主任錢立群向與會人員介紹了未來十年中涂布機/顯影劑產品的最新技術和涂布機/顯影劑系統的最新發展方向,并指出應注意缺陷。在晶圓制造過程中的控制。前島誠司先生說:在缺陷改進的過程中,我們應該關注如何有效地減少設備和工藝造成的缺陷,這就需要加強設備管理。為此,TEL加強了晶圓狀態監測和日志數據分析。